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无激光冷却的原子光刻

Atom lithography without laser cooling

B. Smeets, P. van der Straten, T. Meijer, C. G. C. H. M. Fabrie, K. A. H. van Leeuwen

摘要:

使用直写原子光刻,Fe纳米线被沉积为具有186 nm的节距、50 nm的半高全宽(FWHM)和高达6 nm的高度。这些值是通过依赖于原子束的几何准直来实现的,因此不使用激光准直技术。这为将直写原子光刻应用于各种元素开辟了道路。

英文摘要:

Using direct-write atom lithography, Fe nanolines are deposited with a pitch of 186 nm, a full width at half maximum (FWHM) of 50 nm, and a height of up to 6 nm. These values are achieved by relying on geometrical collimation of the atomic beam, thus without using laser collimation techniques. This opens the way for applying direct-write atom lithography to a wide variety of elements.

机构、总结、中文摘要均由AI分析而来,可能存在错误,请以论文正文为准。

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