The paper investigates the ellipsometric method of measuring the magneto-optical parameter and optical constants in one experiment at affixed angle of the light incidence in ferromagnetics. The influence of the magnetization modulation on the change of ellipsometrical angles is shown. The method is considered for the geometries of polar, meridional and equatorial reflection Kerr effects. The formulae relating to the measured signals in polarizer-subject-analyzer (PSA) circuit with four magneto-optical and optical constants illustrated by the example of ferromagnetic Ni are given.
Switching the Optical Chirality in Magneto-plasmonic Metasurfaces Using Applied Magnetic Fields
手性纳米光子器件在手性分子传感、偏振多样性纳米光子学和显示技术等方面具有广阔的应用前景。主动手性纳米光子器件是一种可以通过外界激励来控制光学手性的器件，引起了人们极大的研究兴趣。然而，光学手性的有效调制一直是具有挑战性的。在这里，我们展示了开关的非本征手性施加磁场的磁等离子体超颖表面设备的基础上的磁光氧化物材料，Ce 1 Y2 Fe 5 O 12（Ce：YIG）。由于Ce：YIG具有低的光损耗和强的磁光效应，在掠入射条件下，在波长为950 nm的激光器上施加-0.65° ~+1.9°范围内的磁场，实现了巨大且连续的远场圆二色性（CD）调制。远场CD调制是由于磁光圆二色性和施加的磁场对超手征场的近场调制。最后，我们在使用自组装制造的毫米级磁等离子体元表面中展示了磁场可调手征成像。我们的研究结果为实现平面集成的、大规模的、具有活性的手性超表面提供了一种新的途径。
Comparative Study of Optical and Magneto-Optical Properties of Normal, Disordered and Inverse Spinel Type Oxides
采用脉冲激光沉积法在高温和低温下制备了Co $_3$ O $_4$、ZnFe $_2$ O $_4$、CoFe $_2$ O $_4$、ZnCo $_2$ O $_4$和Fe $_3$ O $_4$薄膜，得到了具有光滑表面形貌的正、反以及无序的单相尖晶石氧化物薄膜。在0.5 ~ 8.5 eV的宽光谱范围内用椭圆偏振光谱法测定了介电函数，并与在1.7 T的磁场下用磁光克尔效应（MOKE）光谱法在1.7 ~ 5.5 eV的光谱范围内测定的介电张量的磁光响应进行了比较。晶场，价间和亚晶格间电荷转移跃迁，从O $_{2p}$过渡到金属阳离子3d或4s带被确定在主对角线元素和磁光活性非对角线元素的介电张量。取决于阳离子无序的程度，导致局部对称性畸变，磁光响应被认为是最强的高晶体质量的反尖晶石和无序的正常尖晶石结构，相反的第一原理研究的CoFe $_2$ O $_4$和ZnFe $_2$ O $_4$。研究结果为更深入地理解这种材料系统中的光-物质相互作用提供了基础，这种材料系统对与器件相关的现象和工程至关重要。
Phonon-related monochromatic THz radiation and its magneto-modulation in 2D ferromagnetic Cr2Ge2Te6
寻找多种类型的太赫兹辐射源是太赫兹技术的关键。在这里，通过利用一个二维（2D）的铁磁Cr2 Ge 2 Te 6晶体，我们首次展示了磁可调谐单色太赫兹辐射源。在低光子能量的宽带太赫兹泵浦下，可以产生频率约为0.9THz，带宽约为0.25THz的强太赫兹辐射，在160 K时转换效率可达2.1%。此外，有趣的是，发现这种单色THz辐射可以有效地调制低于160 K的磁场。根据实验和理论分析，出射的THz辐射被确定为声子极化激元的辐射，其温度和磁场依赖行为证实了该二维铁磁晶体中存在大的自旋-晶格耦合。这些观测结果为可调谐单色太赫兹光源的产生提供了一条新的途径，在光子学和自旋电子学器件的未来应用中可能具有巨大的实际意义。
Wafer-scale monolithic integration of Ce:YIG films and magneto-optical isolators on silicon
National Engineering Research Centre of Electromagnetic Radiation Control Materials, University of Electronic Science and Technology of China（电磁辐射控制材料国家工程研究中心，电子科技大学）；Key Laboratory of Multi-spectral Absorbing Materials and Structures of Ministry of Education, University of Electronic Science and Technology of China（多光谱吸收材料与结构教育部重点实验室，电子科技大学）；Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences（中国科学院光电技术研究所）；HK Institute of Quantum Science and Technology, University of Hong Kong（香港量子科学研究所，香港大学）
