ILC的最后三米-光束能接近5 nm吗？
The Final Three Meters in the ILC - Can the Beam Approach 5 nm?
摘要：
这篇论文已被撤回的作者，由于一个关键错误的力量方程。
英文摘要：
This paper has been withdrawn by the author due to a crucial error in the force equation.
机构、总结、中文摘要均由AI分析而来，可能存在错误，请以论文正文为准。
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ILC基线包括两个相互作用区域，一个具有20mrad交叉角，另一个具有2mrad交叉角。已知的是，在2mrad布局中，在最后的双合透镜和随后的提取线中的出射光束损耗大于在20mrad布局中的出射光束损耗。在这项工作中，我们利用NbTi和Nb $_3$ Sn超导磁体技术，重新设计和优化最终的双合线，目的是在该区域提供令人满意的输出中断束功率损耗。我们提出了三个新的最终的双重布局，专门为500 GeV和1 TeV的机器进行了优化。
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在本文中，我们使用当前和建议的最终双磁体技术，以重新优化国际直线对撞机的相互作用区域，并减少功率损耗。其结果是一组三个新的最终的双重布局与改进的光束传输性能。局部功率沉积的影响被认为是，其减少使用钨衬垫。
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