通过溅射沉积相选择性生长水溶性铝酸锶用于自支撑氧化物薄膜
Phase-selective growth of water-soluble strontium aluminate via sputtering deposition for freestanding oxide membranes
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中文总结 AI 辅助
通过溅射沉积调控气氛,选择性生长水溶性铝酸锶牺牲层,成功制备性能媲美外延薄膜的铁磁性自支撑Sm2NiMnO6薄膜。
中文摘要 AI 辅助
我们报道了通过溅射沉积外延生长高质量的水溶性铝酸锶薄膜。我们系统地研究了薄膜结构质量对生长条件的依赖性,并展示了通过改变生长过程中的气氛,使用同一靶材可以选择性地生长立方相Sr3Al2O6和四方相Sr4Al2O7。利用这些水溶性牺牲层,我们合成了铁磁性的自支撑Sm2NiMnO6薄膜。通过X射线衍射、同步辐射光谱技术和SQUID磁强计,我们证明了我们的自支撑薄膜表现出与外延薄膜相当的性能。
英文摘要
We report the epitaxial growth of high-quality water-soluble strontium aluminate films via sputtering deposition. We systematically investigate the dependence of the films structural quality on the growth conditions and we show that we can selectively grow, using the same target, both the cubic Sr3Al2O6 and the tetragonal Sr4Al2O7 phases by varying the atmosphere during growth. Using these water-soluble sacrificial layers we then synthesize ferromagnetic freestanding Sm2NiMnO6 membranes. By means of X-ray diffraction, synchrotron spectroscopic techniques and SQUID magnetometry, we demonstrate that our freestanding films exhibit properties comparable to epitaxial films.
发表机构
- TU Wien(维也纳工业大学)
- Université Caen Normandie(诺曼底大学)
- CEA(法国原子能和替代能源委员会)
- ENSICAEN(恩西西安高等学院)
- CNRS(法国国家科学研究中心)
- CIMAP UMR6252(CIMAP联合研究实验室6252)
- Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2)(加泰罗尼亚纳米科学和纳米技术研究所)
- CSIC(西班牙国家研究委员会)
- BIST(巴塞罗那科学与技术研究院)
- University of Geneva(日内瓦大学)
- Leibniz-Institut für Kristallzüchtung(莱布尼兹晶体生长研究所)
- ALBA Synchrotron Light Source(阿尔巴同步辐射光源)
机构由 AI 辅助整理,请以论文原文为准。